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      Res-Sil® 填料

      更新時間:  2017-07-04

      產品型號:  

      產品報價:  

      所  在  地:  北京市朝陽區望京西園222號星源國際D座1503室

      產品特點:  ? 專門用于分離飽和和不飽和的烴類
      ? 創新的化學鍵合技術,保證了每批產品的可重復性、的熱穩定性、長的使用壽命
      ? 廣泛的鍵合固定相可以選擇
      ? 相當于Waters Durapak填料

      (聯系我們,請說明是在 北京明尼克分析儀器設備中心 上看到的信息,謝謝!)

      產品概述

      Res-Sil®填料

      ·專門用于分離飽和和不飽和的烴類
      ·創新的化學鍵合技術,保證了每批產品的可重復性、的熱穩定性、長的使用壽命
      ·廣泛的鍵合固定相可以選擇
      ·相當于Waters Durapak填料
       
      類似固定相:Res-Sil replaces:
      *       Porasil B
      *       Porasil C

      訂貨號#
      產品名稱
      網孔
      溫度限制
      單位
      25400
      Res-Sil C
      60/80
      300°C
      gram
      25028
      Res-Sil C
      80/100
      300°C
      gram
      25401
      Res-Sil B
      60/80
      300°C
      gram
      25080
      Res-Sil B
      80/100
      300°C
      gram
      25081
      1% TCEP on Res-Sil B
      80/100
      175°C
      gram
      25042
      OPN on Res-Sil C
      80/100
      150°C
      gram
      25030
      n-Octane on Res-Sil C
      80/100
      150°C
      gram
      25044
      2% Carbowax 1540 on Res-Sil C
      80/100
      150°C
      gram

      Showing 1 to 8 of 8 entries
       
      描述:
      ·專門用于分離飽和和不飽和的烴類
      ·創新的化學鍵合技術,保證了每批產品的可重復性、的熱穩定性、長的使用壽命
      ·廣泛的鍵合固定相可以選擇
      ·相當于Waters Durapak填料
      相比傳統的填料,此填料在硅土填料上鍵合了n-octane cyanopropyl (OPN)官能團,能夠更快的分離C1 C4烴類,且有更高的熱穩定性、更短的調節周期、更長的使用壽命。但是,普通的鍵合硅土填料會有糟糕的不可重復性,實用性不強。Restek的研發團隊研發了Res-Sil® C填料,其始終如一的表現解決了這個古老的遺留問題。
       
      GC過程中*的選擇性以及石油化工產品的快速分析
      Res-Sil® C 鍵合固定相是快速分離那些難于分離的飽和和不飽和C4烴類的理想用柱。當串聯其它柱時,它的*選擇性能夠提供給石油和石油化學產品方法開發者一種強大的分析工具,這種分析工具能很好的檢測C1 C5 烴類。
       
      創新的研究和嚴格的質控,確保了不同批次柱的*性
      Restek的合成工藝消除了不同批次柱的差異性。一定量的鍵合流動相在不同批次中被精確的控制,確保留時間和分離效果的可重復性。每個生產批次的Res-Sil® C 填料都用復雜的烴類混合物檢測,以滿足保留時間和保留指數說明的要求。柱流失也被評估,保證不會產生保留前遷移或高基準線。
       
      OPN on Res-Sil® C填料zui前沿的鍵合GC 固定相
      Restek提供了用于GC填充柱的廣泛填料選擇,包含Rtx®-1, Stabilwax®, and Carbowax®固定相。我們擴充了這種技術,制造了n-octane on Res-Sil® C 填料和OPN on Res-Sil® C 填料。這兩種填料具有低流失性、少于30分鐘的調節周期、長的使用壽命、不同批次的可重復性。
       

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      研發中心:北京市平谷區中關村科技園區興谷A區平和街39號院(聯東U谷)22號樓C區

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